更改山体阴影的入射角度

在将地貌晕渲或山体阴影应用于数字高程模型 (DEM) 时,您可能需要更改入射角度。ArcMap 窗口中提供了三个用于更改照明属性的位置:

步骤:
  1. 要更改数据框的照明属性,可以执行以下操作:
    1. 右键单击包含 DEM 图层的数据框,然后单击数据框属性
    2. 单击照明选项卡。
    3. 调整方位角。
    4. 调整高度角。
    5. 此外,还可以调节山体阴影的对比度。
    6. 单击应用以查看所做的更改。
    7. 单击确定关闭数据框属性 对话框。
  2. 要使用“影像分析”窗口对创建山体阴影或地貌晕渲图层时所应用的照明属性进行更改,可以执行以下操作:
    1. 影像分析 窗口中,单击影像分析选项按钮 影像分析选项
    2. 单击山体阴影选项卡,然后调整照明属性。
    3. 单击确定关闭处理选项 对话框。
    注注:

    必须在单击地貌晕渲按钮 晕渲地貌 之前设置照明属性;否则,需要执行以下步骤。

  3. 要更改通过“影像分析”窗口创建的山体阴影或地貌晕渲图层的照明属性,可以执行以下操作:
    1. 使用地貌晕渲按钮 晕渲地貌 创建山体阴影栅格图层。
    2. 右键单击内容列表中的栅格图层,然后单击属性
    3. 单击函数选项卡。

      函数将被添加到镶嵌数据集中,并位于通过影像分析 窗口创建的临时栅格图层旁边。这些函数将用于定义动态应用的处理功能。

    4. 右键单击地貌晕渲函数,然后单击属性
    5. 单击地貌晕渲选项卡,然后编辑属性。
    6. 单击确定关闭栅格函数属性 对话框,然后再次单击确定关闭图层属性 对话框。

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7/10/2012